logo
DNP加速开发面向2纳米EUV光刻时代的光刻掩模版制造工艺
===2024-3-27 19:22:03===
掘全新的商业机遇,同时注重保护环境并为所有人建设更富有活力的世界。我们运用在微细加工和精确涂装领域的核心优势,提供面向显示器、电子设备和光学膜市场的产品。我们还不断开发各种新产品,例如均热板和反射阵列,提供下一代通信解决方案,建设对人更友好的信息社会。

免责声明:本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用,烦请参照原文,原文版本乃唯一具法律效力之版本。


在 businesswire.com 上查看源版本新闻稿: https://www.businesswire.com/news/home/20240319963199/zh-CN/


CONTACT:

媒体垂询
DNP:Yusuke Kitagawa,+81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp
EUV光刻及光刻保护膜Pellicle的图片(照片:美国商业资讯)
=*=*=*=*=*=
当前为第2/2页
上一页-
=*=*=*=*=*=
返回新闻列表
返回网站首页