Toshiba开始出货1200V沟槽栅SiCMOSFET测试样品,助力提升下一代AI数据中心效率
===2026/5/21 17:48:56===
NEDO)资助。
注:
[1]在半导体衬底中形成微细沟槽,并将栅电极嵌入沟槽内部的器件结构。
[2]截至2026年5月的Toshiba调研。
[3]新开发的1200V SiC MOSFET与Toshiba第三代SiC MOSFET(TW015Z120C)的比较。截至2026年5月的Toshiba调研。
应用
数据中心电源(AC-DC、DC-DC)
光伏逆变器
不间断电源(UPS)
电动汽车充电站
储能系统
工业电机
特性
低导通电阻和低DS(on)A
低开关损耗和低DS(on)× Qgd
较低的栅极驱动电压:VGS_ON=15V至18V
高热性能QDPAK封装
主要规格
(除非另有说明,Tvj=25°C)
器件型号
TW007D120E
封装
名称
QDPAK
绝对最大额定值
漏极-源极电压VDSS(V)
1200
漏极电流(DC)ID(A)
Tc=25°C
172
电气特性
漏极-源极导通电阻RDS(on)(mΩ)
VGS=15V
典型值
7.0
栅极阈值电压Vth(V
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