logo
Toshiba开始出货1200V沟槽栅SiCMOSFET测试样品,助力提升下一代AI数据中心效率
===2026/5/21 17:48:56===
NEDO)资助。

注:
[1]在半导体衬底中形成微细沟槽,并将栅电极嵌入沟槽内部的器件结构。
[2]截至2026年5月的Toshiba调研。
[3]新开发的1200V SiC MOSFET与Toshiba第三代SiC MOSFET(TW015Z120C)的比较。截至2026年5月的Toshiba调研。

应用


数据中心电源(AC-DC、DC-DC)

光伏逆变器

不间断电源(UPS)

电动汽车充电站

储能系统

工业电机


特性


低导通电阻和低DS(on)A

低开关损耗和低DS(on)× Qgd

较低的栅极驱动电压:VGS_ON=15V至18V

高热性能QDPAK封装


主要规格





(除非另有说明,Tvj=25°C)





器件型号



TW007D120E





封装



名称



QDPAK





绝对最大额定值



漏极-源极电压VDSS(V)



1200





漏极电流(DC)ID(A)



Tc=25°C



172





电气特性



漏极-源极导通电阻RDS(on)(mΩ)



VGS=15V



典型值



7.0





栅极阈值电压Vth(V
=*=*=*=*=*=
当前为第2/4页
下一页-上一页-
=*=*=*=*=*=
返回新闻列表
返回网站首页