Toshiba推出采用最新一代工艺的80VN沟道功率MOSFET,旨在提升人工智能数据中心的能效
===2026/7/1 11:25:56===
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Toshiba将继续扩充其功率MOSFET产品线,以提升电源效率,从而有助于降低工业设备的能耗。
注:
[1] 截至2026年6月,基于Toshiba的低压功率MOSFET工艺。
[2] VGS =10V, ID =50A, Ta =25°C
[3] Toshiba调查,截至2026年6月。
应用
工业设备
用于人工智能数据中心和通信基站的开关模式电源
特性
低漏极-源极导通电阻:RDS(ON) =1.4mΩ (max) (VGS =10V, ID =50A, Ta =25°C)
低漏极-源极导通电阻 × 总栅极电荷: RDS(ON) ×Qg =1.4mΩ×80nC=112mΩnC (比TPM1R908QM的1.9 mΩ×10 nC=205.2 mΩnC低约45%)
采用SOP Advance(E)封装,具备低封装电阻和低热阻的特点。
主要规格
(除非另有说明, Ta =25°C)
器件编号
TPM1R408RH
绝对最大额定值
漏源电压 VDSS (V)
80
漏极电流 (DC) ID (A)
Tc =25°C
288
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