半导体等优势领域，不断加大对先进制程领域（28nm及以下）的研发投入，膜厚系列产品、OCD设备、电子束设备等核心主力产品持续放量，另外公司积极推进明场光学缺陷检测设备、无图形暗场缺陷检测设备、有图形暗场缺陷检测设备等先进制程新产品的研发布局。
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