近日，半导体圈一则“传闻”引起市场人士广泛关注。该消息称：“上海微电子28nm浸没式DUV光刻机完成首批交付，交付对象为国内晶圆厂，并且良率达到90%～95%。”但经记者核实发现，该传闻早在今年3月至4月间便由个别博主在社交平台散布，并无可靠信源。该信息大量援引了今年3月SEMICON China展会上上海微电子的相关内容，且关键数据均与实际情况不符。比如，所谓光刻机“90%～95%”的良率，即便是指加工半导体的良率，亦因“远超当前台积电先进制程良率”而明显脱离实际。上述消息出现后，部分媒体也对以上传言进行了辟谣，网传的28nm浸没式光刻机并未交付晶圆厂，设备仍在调试阶段，所谓“良率90%～95%”的说法与实际情况存在较大偏差等。不过，在“光之牛市”的带动下，二级市场光刻、刻蚀等半导体设备相关板块，仍然消化了传言带来的情绪提振，并在市场中走出独立行情。其原因则与中国大量企业开始着力投入成熟制程市场有关。5月18日，与上海微电子同隶属于上海电气集团的上海电气H股一度逆势涨14%，其涨势重现了今年3月SEMICON China展会期间上海微电子参展所引发的火热行情。无独有偶，5月15日，刻蚀设备商中微公司一度接近“20CM”涨停。有消息称，中微公司上调2026年订单增速指引（从30%上调至50%），其给出的理由为存储芯片、国产先进制程领域的旺盛需求，以及国内晶圆厂扩产带来的增量需求。从A股大方向来看，Wind半导体设备指数月线已经连续两个月实现两位数涨幅，为去年8月以来首次。但与其他“沾光”企业相比，国产半导体设备的进展主要围绕成熟制程展开，且呈产研两旺的局面。成熟制程需求高企近日，中芯国际创始人张汝京呼吁，中国半导体产业不应对高端制程“盲目执着”，而应选择主攻成熟制程市场。他指出，以产品数量计算，3nm、2nm等先进制程在全球市场占比不足20%，而超过80%的需求来自成熟制程与特色工艺。在汽车电子、工业控制、物联网等领域，28nm及以上成熟工艺不仅完全够用，且具备高良率和成本优势。此前，英伟达CEO黄仁勋在做客个人播客节目时也提出了类似观点：市场主流半导体为成熟制程半导体，中国在这方面拥有巨大的潜力和能力。根据中商产业研究院数据，成熟制程光刻机市场在全球半导体设备中占据重要份额。2025年全球光刻机市场规模约为350亿美元，预计202
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