发布研报称，玻璃材料具备高平整度、尺寸稳定性好、热膨胀系数可调、介电损耗低、衬底损耗小及适合矩形面板加工等优势，有望成为AI/HPC大尺寸的重要载板/中介层材料。玻璃基板在供应链中从主题预期走向产业验证。CPO方面，玻璃基板短期有望率先应用于玻璃基电互连载板，长期则可进一步向玻璃光波导与光电集成方向延伸。主要观点如下：玻璃基板是AI时代先进封装载板/中介层的理想材料AI算力需求持续高景气，带动高端GPU、ASIC、HBM等核心器件向高带宽、高I/O、高集成度方向演进，正由后段制造环节升级为系统性能优化平台。随着封装尺寸持续扩大，硅中介层受单次曝光面积、12寸晶圆排布效率、缺陷命中概率和成本良率约束，继续扩尺寸的难度提升;同时，传统有机封装基板在高频高速互连、大尺寸封装、热膨胀匹配和翘曲控制等方面的短板逐步放大。玻璃材料具备高平整度、尺寸稳定性好、热膨胀系数可调、介电损耗低、衬底损耗小及适合矩形面板加工等优势，有望成为AI/HPC大尺寸的重要载板/中介层材料。产业化进程显著加快，和推动级玻璃基板进入产业验证阶段2026年1月全球首款采用玻璃芯载板的商用CPU发布，验证了玻璃材料在封装载板层级导入量产的产业可行性;方面，CoPoS已由前期可行性研究进入试产验证阶段，CoPoS产线预计2028-2029年间产量将大幅提升，意味着玻璃基板在供应链中从主题预期走向产业验证。射频IPD和CPO是玻璃基板落地速度较快的应用场景射频IPD方面，玻璃因具备高绝缘性、低介电损耗、尺寸稳定性及优异的高频特性，成为集成无源器件的重要衬底材料。目前，云天、3DGS等厂商已实现玻璃基IPD的量产，并在高频、高精度应用中取得可靠验证。CPO方面，玻璃基板短期有望率先应用于玻璃基电互连载板，长期则可进一步向玻璃光波导与光电集成方向延伸。原片和TGV是玻璃基板工艺核心难点级玻璃基板制造流程包括玻璃原片制备、TGV成孔、孔壁金属化/铜填孔、表面金属化、重布线层、介质层与多层互连、表面处理及可靠性验证。其中，玻璃原片决定平整度、厚度均匀性、低缺陷和热膨胀匹配能力;TGV负责上下层垂直导通，是玻璃基板从结构支撑材料升级为三维互连平台的关键工艺。产业链关注原片、精加工和辅材三大环节原片端由特种玻璃企业主导，海外、肖特、AGC、NEG等具备领先积累，国内、戈碧迦、、、等企业具备材料基础。精加工端关注TGV成孔
=*=*=*=*=*=
当前为第1/2页
下一页-
=*=*=*=*=*=
返回新闻列表
返回网站首页